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高纯纳米硅


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产品简介

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高纯纳米硅

1. 制备技术:等离子气相裂解反应

2. 平均粒度: 60-70纳米

3。 纯 度: >4N

4. 比表面积: >25 m2/g

5。 杂质含量:

Al: <1ppm

Fe: <10ppm

Ca: <1ppm

As: <0.05ppm

B: <0.05ppm

P: <0。5ppm

Other <0。05ppm

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高纯纳米氮化硅

1. 制备技术:等离子气相裂解反应

2. 平均粒度: 60-70纳米

3. 纯 度: >99%

4. 比表面积: >22.5 m2/g

5。 杂质含量:

N: 36-38%

O: < 0。8%

Cl: < 0.8%

Al: <30ppm

Fe: <100ppm

Ca: <10ppm

Other<1ppm

2.png

高纯纳米氮化钛

1. 制备技术:等离子气相裂解反应

2. 平均粒度: 20纳米

3。 纯 度: >99%

4。 比表面积: >45 m2/g

5. 杂质含量:

N: 21.7-23.25%

Ti: 76.2-77.76%

O: < 0。8%

Cl: < 0.8%

Al: <30ppm

Fe: <100ppm

Ca: <10ppm

Other<1ppm

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